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DEMI-MASQUE 3M 4277 - ABE1P3

3M

Utilisé

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le point de vue du spécialiste

Le masque 3M 4277, vous assure une protection contre les vapeurs organiques et contre les particules. C'est le cas notamment lors de manipulations de solvants (Xylène, MEK, Toluène...), Manipulations de Chlore, d'Eau de javel, d'Acide chlorhydrique, de Dioxyde de soufre, d'Hydrogène sulfuré... Les filtres étant intégrés au masque et non interchangeable, une fois que ceux-ci sont arrivés à  saturation (lorsque qu'une gêne respiratoire se fait sentir ou une légère odeur), il vous suffit de renouveler l'équipement complet. Ainsi plus de maintenance et d'entretien !

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Le masque 3M 4277, vous assure une protection contre les vapeurs organiques et contre les particules. C'est le cas notamment lors de manipulations de solvants (Xylène, MEK, Toluène...), Manipulations de Chlore, d'Eau de javel, d'Acide chlorhydrique, de Dioxyde de soufre, d'Hydrogène sulfuré... Les filtres étant intégrés au masque et non interchangeable, une fois que ceux-ci sont arrivés à  saturation (lorsque qu'une gêne respiratoire se fait sentir ou une légère odeur), il vous suffit de renouveler l'équipement complet. Ainsi plus de maintenance et d'entretien !

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Caractéristiques techniques

Demi-masque à  filtres intégrés. La technologie du charbon actif compacté réduit la résistance respiratoire; Forme semi-sphérique, offrant un excellent champ visuel Soupape expiratoire réduisant la sensation de chaleur à  l'intérieur du masque.

NormeEN 405:2001+A1:2009
FiltreFFABE1P3D 10 x Valeur Moyenne d'Exposition contre les vapeurs organiques, inorganiques, et gaz acides, 50 x Valeur Moyenne d'Exposition contre les poussières
Poids300g
ConditionnementL'unité

Le masque est conforme la norme EN 405:2001+A1:2009 et vous assurera une protection contre les vapeurs organiques et contre les particules. C'est le cas notamment lors de manipulations de solvants (Xylène, MEK, Toluène...), Manipulations de Chlore, d'Eau de javel, d'Acide chlorhydrique, de Dioxyde de soufre, d'Hydrogène sulfuré...

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